工业废气处理设备主要用于去除或净化工业生产过程中产生的有害气体，其设计初衷并非直接针对光学器件的清洁。然而，**在某些特定情况下**，某些类型的工业废气处理技术（如UV光解净化）可以被创造性地应用于辅助清洁过程的一部分阶段中。**但这种应用需要谨慎评估和调整**以适应不同的需求和环境条件。

例如，UV光清洗灯管等设备利用紫外线的能量来分解和清除表面污染物，这种技术在原理上与部分用于精密仪器、包括光学器件的高洁净度要求有共通之处——即通过非接触式方法去除难以触及区域的污渍与颗粒物。但直接使用传统的废气治理设备进行这一操作可能并不合适，因为它们的配置和操作参数往往专为大规模气体流动而优化，而非控制下的局部表面处理任务。

因此，尽管存在理论上的可能性将某些方面的工业技术应用到特殊场景中去解决具体问题，但在实际操作前必须充分论证其实用性和安全有效性，并可能需要专门的改造和优化以满足特定的使用要求和标准规范。对于常规的光学区域维护和保养而言，更推荐使用设计的擦镜纸配合试剂级或其他合适的溶剂进行细致入微的手工擦拭或使用的超声波等物理方式进行深度清理以达到佳效果且避免潜在损险的发生。